特許
J-GLOBAL ID:200903022630453908

光触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 喜平 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-149174
公開番号(公開出願番号):特開2000-334310
出願日: 1999年05月28日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】 アナターゼ型結晶構造の含有率が高い二酸化チタンからなる光触媒の製造方法を提供する。【解決手段】 光触媒の製造方法において、第1の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応工程と、第2の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応物にポリオールおよびポリアミンあるいはずれか一方の化合物を添加する工程と、第3の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応物を焼成する工程とを含む。
請求項(抜粋):
第1の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応工程を含むことを特徴とする光触媒の製造方法。
IPC (3件):
B01J 35/02 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ZAB
FI (3件):
B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 ZAB A ,  B01D 53/36 J
Fターム (22件):
4D048AA22 ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048BB03 ,  4D048EA01 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA04C ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069CA01 ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA11 ,  4G069FB08 ,  4G069FB30 ,  4G069FC02

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