特許

J-GLOBAL ID：200903022638372001

有機電界発光素子の製造方法及び有機電界発光素子の製造装置

発明者： 石井 昌彦 ,  時任 静士 ,  多賀 康訓
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-077929
公開番号（公開出願番号）：特開2000-277256
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】 再現性良く有機EL素子を製造すること。【解決手段】 基板上に、透明電極、発光層を含む有機層及び金属電極を備える有機EL素子を製造するにあたり、基板上に形成されたITO透明電極に対して表面処理を行って該ITO電極の仕事関数、清浄性及び平坦性を向上させる。さらに、表面処理後、基板を大気に曝すことなく測定室200に搬入し、ここでITO電極表面の清浄性(XPS)、平坦度(AFM)及び仕事関数を測定する。測定した清浄性、平坦度及び仕事関数が所定条件を満たすかどうか確認し、満たしている場合に、被測定基板を大気に曝されることなく次の有機層形成室300に搬送し表面処理後の透明電極表面に有機層を形成し、金属電極形成室400でさらに金属電極が形成される。

請求項（抜粋）：

基板上に、透明電極、発光層を含む有機層及び金属電極を備える有機電界発光素子の製造方法であり、前記基板上に形成された前記透明電極表面に前記有機層を形成する前に、真空雰囲気下で、前記透明電極に対して表面処理を行い、次に、大気に曝すことなく該表面処理後の透明電極表面の清浄性と平坦度及び前記透明電極の仕事関数を測定し、測定した清浄性、平坦度及び仕事関数が所定条件を満たす場合に、大気に曝すことなく前記表面処理後の透明電極表面に前記有機層を形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/28

FI (3件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/28

Fターム (12件)：

3K007AB01 ,  3K007AB03 ,  3K007AB06 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BB01 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01