特許
J-GLOBAL ID：200903022644755150

電磁波シールド性透明フィルム

発明者：
上原 寿茂

上原 寿茂 について

, 
中祖 昭士

中祖 昭士 について

, 
高井 健次

高井 健次 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-413455
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175217
出願日： 2003年12月11日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】透明基材上に導電性金属の幾何学図形を形成すると、透明基材上の樹脂層に、導電性金属箔の粗化面を転写して凹凸面を形成するため、その表面で光が散乱され、電磁波シールドフィルムは不透明となるので、これまでは、幾何学図形が形成された導電性金属上にフィルムを介して加圧させて樹脂層を流動させるなどの方法、幾何学図形の形成後も被覆のための樹脂をコーティングする方法などにより行っていたが、その方法の容易化、製造コストの低減化が望まれる。【解決手段】プラスチック支持体に樹脂層を介して導電性金属箔をその滑らかな面を樹脂層側にして積層し、その導電性金属箔を開口率が50%以上となるように一部除去して幾何学図形を形成することを特徴とする電磁波シールド性透明フィルムの製造方法。導電性金属箔の滑らかな面の表面粗さRzが1.5μm以下である事が好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
プラスチック支持体に樹脂層を介して導電性金属箔をその滑らかな面を樹脂層側にして積層し、その導電性金属箔を開口率が50%以上となるように一部除去して幾何学図形を形成することを特徴とする電磁波シールド性透明フィルムの製造方法。
IPC (3件)：
H05K9/00 ,  B32B15/08 ,  G09F9/00
FI (3件)：
H05K9/00 V ,  B32B15/08 D ,  G09F9/00 309A
Fターム (43件)：
4F100AB01C ,  4F100AB13C ,  4F100AB15C ,  4F100AB16C ,  4F100AB18C ,  4F100AB20C ,  4F100AB21C ,  4F100AB31C ,  4F100AB33C ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DC11C ,  4F100DD07C ,  4F100EJ67C ,  4F100EJ69C ,  4F100GB41 ,  4F100JB02C ,  4F100JD08 ,  4F100JG01C ,  4F100JK15C ,  4F100JM02C ,  4F100JN01 ,  4F100YY00C ,  5E321AA04 ,  5E321BB21 ,  5E321BB23 ,  5E321CC16 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01 ,  5G435AA01 ,  5G435AA16 ,  5G435BB02 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435GG33 ,  5G435HH12 ,  5G435HH18 ,  5G435KK07
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)

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