光学反射膜の形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：瀧野秀雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-074489
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289206
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：

【要約】【目的】成膜能率の高いスパッタリング法によりプラスチックス基板上に密着性が高くかつ欠陥の少ないアルミニウム系金属の反射膜を形成する方法を提供する。【構成】プラスチックス基板上に金属性光学反射膜を形成するにあたり、圧力200Pa以下のヘリウム又は水素の雰囲気内で直流グロー放電により発生した荷電粒子に暴露することにより該プラスチックス基板の表面を改質した後、該改質面に対してアルミニウム系金属のスパッタリング成膜を行うことにより光学反射膜を形成する。

請求項（抜粋）：

プラスチックス基板上に金属性光学反射膜を形成するにあたり、圧力200Pa以下のヘリウム又は水素の雰囲気内で直流グロー放電により発生した荷電粒子に暴露することにより該プラスチックス基板の表面を改質した後、該改質面に対してアルミニウム系金属のスパッタリング成膜を行うことを特徴とする光学反射膜の形成方法。

IPC (3件)：

G02B 5/08 , C23C 14/02 , C23C 14/20

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-017660
特開平4-204502
特開平4-017660

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