特許
J-GLOBAL ID：200903022651376202
ポリマ光導波路及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-322456
公開番号（公開出願番号）：特開2004-157305
出願日： 2002年11月06日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：
【課題】低コストで量産化が図れ、耐熱性、偏波面依存性、耐UV性を有するポリマ光導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】耐熱性、偏波面依存性に優れた化1式で表される加水分解性シラン化合物及びその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物を用いてコア5(もしくは側面クラッド11)となる光硬化性ポリマ4(10)からなる膜にUVまたは電子線のビーム3の照射量により屈折率差を設けてポリマ光導波路9(14)を作製することにより、耐熱性、低コスト性、量産性、偏波面依存性の課題が解決される。また、光照射及び加熱もしくはいずれか一方によりポリマ光導波路9(14)の材料の反応を終結させるので、UV吸収層を設ける必要がなく、低コスト化が図れる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
下部クラッドと、該下部クラッド上に形成され該下部クラッドより屈折率が高く光信号が伝搬するコアと、上記下部クラッド上の該コアの側面に形成され上記コアより屈折率が低い側面クラッドと、上記コア及び該側面クラッド上に形成され上記コアより屈折率が低い上部クラッドとを備えたポリマ光導波路において、上記コア及び上記側面クラッドは光硬化性ポリマの一部に紫外線または電子線のビームが照射されて屈折率が変化し、光照射及び加熱もしくはいずれか一方により反応が終結したものであることを特徴とするポリマ光導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2H047KA04
, 2H047PA01
, 2H047PA11
, 2H047PA22
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 4J002CP021
, 4J002CP031
, 4J002ES006
, 4J002EV216
, 4J002EV246
, 4J002EW056
, 4J002EZ006
, 4J002GP00
