特許
J-GLOBAL ID：200903022655866999

反応式被膜堆積方法と真空被膜コーティング装置、および同方法と同装置の使用

発明者：
カルナー・ヨハン

カルナー・ヨハン について

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ペドラッチーニ・マウロ

ペドラッチーニ・マウロ について

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ベルクマン・エリッヒ

ベルクマン・エリッヒ について


出願人/特許権者：
バルツェルス・アクチェンゲゼルシャフト

バルツェルス・アクチェンゲゼルシャフト について


代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-009050
公開番号（公開出願番号）：特開平8-253857
出願日： 1996年01月23日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【課題】 より広い被加工体表面ないしは多数の被加工体を同時に再現可能に均等に処理することである。【解決手段】 反応性の工程を用いる被加工体を処理するため、束ねられたプラズマ・ビーム1が作られ、処理すべき被加工体の表面は、プラズマ・ビーム(A)に対して同軸の回転面(F)に沿って分配され、しかも、プラズマ密度が最大値を示すビーム中央部の多くても20%の領域に分配される。
請求項（抜粋）：
被加工体を反応的に処理する方法であって、プラズマ・ビーム(1)が真空排気された受容器内(10)で作られ、ビーム軸(A)に沿ってプラズマ密度の最高の領域に関連して被加工体がラジアル方向に向けて配置され、新鮮な反応気体(R)が受容器(10)に導入され、消費され、受容器より排気されるよう構成され、次のこと、すなわち、同時に処理すべき被加工体表面が、縦方向に伸張された回転面に沿って分配され、プラズマ・ビームの周りに配置されることを特徴とする、被加工体を反応的に処理する方法。
IPC (3件)：
C23C 14/24 ,  C23C 14/32 ,  H05H 1/48
FI (3件)：
C23C 14/24 F ,  C23C 14/32 A ,  H05H 1/48
引用特許：
審査官引用 (10件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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