特許
J-GLOBAL ID：200903022658356932
転写マスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-038965
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213620
出願日： 1996年01月31日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】【課題】 高歩留まりで、製造時間が短く、高精度な外径寸法及び外周側壁を有する転写マスクの製造方法を提供する。【解決手段】 支持枠部に支持された薄膜部に開口を形成してなる転写マスクを一枚の基板上に複数配列形成し、各転写マスクをエッチング加工によって基板から分離して複数の転写マスクを一括して製造する転写マスクの製造方法において、基板裏面側から転写マスクを分離するための溝をウエットエッチングにより形成し、基板裏面側からのウエットエッチングだけで各転写マスクの分離を行う。
請求項（抜粋）：
支持枠部に支持された薄膜部に開口を形成してなる転写マスクを一枚の基板上に複数配列形成し、各転写マスクをエッチング加工によって基板から分離して複数の転写マスクを一括して製造する転写マスクの製造方法において、基板裏面側から転写マスクを分離するための溝をウエットエッチングにより形成し、基板裏面側からのウエットエッチングだけで各転写マスクの分離を行うことを特徴とする転写マスクの製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, H01L 21/306
H01L 21/30 541 S
, G03F 1/16 A
, H01L 21/306 Q
