低SiO2焼結鉱および低SiO2焼結鉱を用いた高炉操業方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：苫米地正敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-218526
公開番号（公開出願番号）：特開2000-034527
出願日： 1998年07月16日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】高炉において長期間安定した低Si操業、好ましくは溶銑中Si濃度が安定して0.3重量%以下に維持されるような低Si操業を可能ならしめる低SiO2焼結鉱を得る。【解決手段】溶銑中のSi濃度は、焼結鉱中のSiO2含有量だけでなくCaO成分とFeO成分の比率に大きく影響され、その比率をある特定の水準以上とすることにより低SiO2焼結鉱を用いた高炉操業において溶銑中Si濃度を安定して低減化できるという知見に基づきなされたもので、SiO2成分が5.0重量%以下で、且つCaO成分とFeO成分の重量比[CaO%]/[FeO%]が1.55以上であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

SiO2成分が5.0重量%以下で、且つCaO成分とFeO成分の重量比[CaO%]/[FeO%]が1.55以上であることを特徴とする低SiO2焼結鉱。

IPC (2件)：

C22B 1/20 , C21B 5/00 301

FI (2件)：

C22B 1/20 , C21B 5/00 301

Fターム (6件)：

4K001AA10 , 4K001CA49 , 4K001GA02 , 4K001GB01 , 4K012BA02 , 4K012BA08

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭61-281829
特開昭61-281829

前のページに戻る