特許
J-GLOBAL ID：200903022680226066
可視光型光触媒及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫 (外2名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999004396
公開番号（公開出願番号）：WO2000-010706
出願日： 1999年08月13日
公開日（公表日）： 2000年03月02日
要約：
【要約】アナターゼ型二酸化チタン等の酸化物半導体であって安定した酸素欠陥を有する可視光照射下で活性を有する触媒。酸化物半導体を水素プラズマ処理または希ガス類元素プラズマ処理する方法であって、処理系内への大気の侵入が実質的にない状態で上記処理を行う可視光型光触媒の製造方法。上記の触媒を基材表面に設けた物品。少なくとも可視光線を含む光を照射した上記の触媒に被分解物を接触させる物質の分解方法。可視光線も利用可能な新たな光触媒及びこの光触媒を利用して有機物や細菌を含む種々の物質を光分解して除去する方法が提供される。
請求項（抜粋）：
安定した酸素欠陥を有する酸化物半導体であることを特徴とする可視光照射下で活性を有する触媒。
IPC (7件)：
B01J 35/02
, B01D 53/86
, B01J 21/06
, C01G 23/047
, C02F 1/72
, C25B 1/04
, H01L 31/04
B01J 35/02 J
, B01J 21/06 M
, C01G 23/047
, C02F 1/72 Z
, C25B 1/04
, B01D 53/36 J
, H01L 31/04 M
