特許

J-GLOBAL ID：200903022688426218

グラファイト状炭素の製造方法

発明者： 大田 昌昭 ,  吉瀬 良文
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所 ,  財団法人地球環境産業技術研究機構
代理人 (1件)： 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-233063
公開番号（公開出願番号）：特開2000-072425
出願日： 1998年08月19日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】 小さなエネルギーでグラファイト状炭素を製造する。【解決手段】 酸化コバルト10gを、反応管10に充填し、水素ガスにより400°Cで還元した後、窒素ガス、二酸化炭素ガス、水素ガスの混合ガスを流しながら、反応管10を加熱炉14により加熱し、反応後のガスをガスクロマトグラフ16により測定して生成物の量を定量した。反応条件は、窒素ガス:二酸化炭素ガス:水素ガス=1:3:6、混合ガス流量が200ml/分、反応温度が525°Cで行なった。その結果、グラファイト状炭素を得ることができた。

請求項（抜粋）：

水素と二酸化炭素を1/1以上の比で含む混合ガスを、酸化コバルト、コバルトを含む合金又は金属コバルトからなる触媒に、触媒反応温度が420〜600°Cの条件で接触させることを特徴とするグラファイト状炭素の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 31/04 101 ,  B01J 23/75 ,  H01M 4/58

FI (3件)：

C01B 31/04 101 Z ,  H01M 4/58 ,  B01J 23/74 311 Z

Fターム (20件)：

4G046EA06 ,  4G046EB04 ,  4G046EC02 ,  4G046EC08 ,  4G069AA02 ,  4G069BA17 ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BD02A ,  4G069BD02B ,  4G069CB81 ,  4G069CC32 ,  5H003AA08 ,  5H003AA10 ,  5H003BA01 ,  5H003BA07 ,  5H003BB02 ,  5H003BC01 ,  5H003BC06 ,  5H003BD01