特許

J-GLOBAL ID：200903022689720055

水素ガスの発生方法および水素ガス発生装置

発明者： 水野 忠彦
出願人/特許権者： 水野 忠彦 ,  荒木 正雄
代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  坪井 淳 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲 ,  中村 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-218552
公開番号（公開出願番号）：特開2004-059977
出願日： 2002年07月26日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：

【課題】制御性よく、連続的に水を直接熱分解して、高い効率で水素ガスを発生する方法を提供する。【解決手段】反応容器内に酸、アルカリまたは金属塩の水溶液を収容し、70°C以上100°C未満に加熱する工程、前記加熱された水溶液に100V以上2000V以下の電圧を、0.1s以上10s以下のパルス幅、0.01s以上5s以下のパルス間隔で印加してプラズマを発生させる工程、および前記プラズマにより前記水溶液を電気分解する工程を具備することを特徴とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

反応容器内に酸、アルカリまたは金属塩の水溶液を収容し、70°C以上100°C未満に加熱する工程、 前記加熱された水溶液に100V以上2000V以下の電圧を、0.1s以上10s以下のパルス幅、0.01s以上5s以下のパルス間隔で印加してプラズマを発生させる工程、および 前記プラズマにより前記水溶液を電気分解する工程 を具備することを特徴とする水素ガスの発生方法。

IPC (4件)：

C25B1/04 ,  C01B3/04 ,  C25B11/02 ,  C25B15/02

FI (4件)：

C25B1/04 ,  C01B3/04 R ,  C25B11/02 302 ,  C25B15/02 302

Fターム (15件)：

4K011AA15 ,  4K011CA05 ,  4K011DA01 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BA17 ,  4K021BB03 ,  4K021BC05 ,  4K021CA05 ,  4K021CA06 ,  4K021CA12 ,  4K021DA05 ,  4K021DA10 ,  4K021DA13 ,  4K021DC03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭56-022602
  
• 水素製造法、水素製造装置およびパワーシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-243651   出願人：畑中武史
• 水素ガス製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-029728   出願人：北辰工業株式会社, 富士通株式会社