ビーム整形光学系および該ビーム整形光学系を備えた露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-112379
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286145
出願日： 1995年04月13日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】入射光束を所望の倍率で整形することが可能なビーム整形光学系を提供すること。【構成】本発明においては、第1軸線1に沿って平行光束が入射する第1プリズム2と、該第1プリズムからの平行光束を前記第1軸線に平行な第2軸線4に沿った平行光束に変換して射出する第2プリズム3とを備え、前記第1プリズムに入射した平行光束を前記第1軸線および前記第2軸線を含む面内において整形して前記第2プリズムから射出するビーム整形光学系において、前記第1軸線および前記第2軸線を含む面内において前記第1プリズムおよび前記第2プリズムをそれぞれ異なる方向に回転させるための回動手段と、前記第1軸線に平行な方向に沿って前記第1プリズムと前記第2プリズムとを相対的に移動させるための移動手段とを備え、前記前記第1プリズムおよび前記第2プリズムの回転量に応じた倍率で、前記第1プリズムに入射した平行光束を整形して前記第2プリズムから射出する。

請求項（抜粋）：

第1軸線に沿って平行光束が入射する第1プリズムと、該第1プリズムからの平行光束を前記第1軸線に平行な第2軸線に沿った平行光束に変換して射出する第2プリズムとを備え、前記第1プリズムに入射した平行光束を前記第1軸線および前記第2軸線を含む面内において整形して前記第2プリズムから射出するビーム整形光学系において、前記第1軸線および前記第2軸線を含む面内において前記第1プリズムおよび前記第2プリズムをそれぞれ異なる方向に回転させるための回動手段と、前記第1軸線に平行な方向に沿って前記第1プリズムと前記第2プリズムとを相対的に移動させるための移動手段とを備え、前記前記第1プリズムおよび前記第2プリズムの回転量に応じた倍率で、前記第1プリズムに入射した平行光束を整形して前記第2プリズムから射出することを特徴とするビーム整形光学系。

IPC (4件)：

G02B 27/09 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (6件)：

G02B 27/00 E , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 516 A

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