特許
J-GLOBAL ID：200903022703340376
感放射線性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-350227
公開番号（公開出願番号）：特開2002-156759
出願日： 2000年11月16日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：
【要約】【課題】 特に、遠紫外線や、電子線等の荷電粒子線に感応し、解像性能およびパターン形状が優れるとともに、特にナノエッジラフネスが小さい化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)2,4,6-トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム2,4-ジフルオロベンゼンスルホネート、2,4,6-トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム4-トリフルオロメチルベンゼンスルホネート等に代表される感放射線性酸発生剤、並びに(B)ポリ(p-ヒドロキシスチレン)中のフェノール性水酸基の水素原子の一部が、1-エトキシエチル基で、あるいは1-エトキシエチル基とt-ブトキシカルボニル基もしくはt-ブチル基とで置換された樹脂等に代表されるアセタール構造を有する樹脂を含有する。
請求項（抜粋）：
(A)下記式(1-a)で表される構造と下記式(1-b)で表される構造とを有する化合物からなる感放射線性酸発生剤【化1】〔式(1-a)において、R1 〜R15は相互に独立に、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルコキシル基またはt-ブトキシカルボニルメトキシ基を示し、かつR1 〜R5 のうちの2個以上が水素原子以外の基である条件、R6 〜R10のうちの2個以上が水素原子以外の基である条件およびR11〜R15のうちの2個以上が水素原子以外の基である条件の少なくとも1つの条件を満たす。〕〔式(1-b)において、R16〜R20は相互に独立に、水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、かつR16〜R20のうちの1〜5個がフッ素原子またはトリフルオロメチル基である。〕並びに(B)下記式(2)で表される繰返し単位と下記式(3)で表される繰返し単位とを有する樹脂【化2】〔式(2)において、R21はメチル基またはエチル基を示し、R22は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。〕【化3】を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/039 601
, C08K 5/375
, C08K 5/42
, C08L 25/18
, C09K 3/00
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08K 5/375
, C08K 5/42
, C08L 25/18
, C09K 3/00 K
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 4J002BC12W
, 4J002BC12X
, 4J002EV046
, 4J002EV237
, 4J002FD206
, 4J002FD207
, 4J002GQ05
