真空蒸着装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-252624
公開番号（公開出願番号）：特開平5-093271
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：

【要約】【目的】金属酸化物を長尺状基材フィルムへ金属酸化物等の薄膜を連続して安定に蒸着できる真空蒸着装置を提供する。【構成】真空吸収機構を有する密閉系内に、薄膜形成材料を電子銃で加熱しながら、長尺状の基材フィルムを高速走行させ、薄膜形成材料を基材フィルムに連続的に蒸着する巻取式の真空蒸着装置において、薄膜形成材料が中心部から冷却可能な駆動系を有した円柱状支持体に支持され、かつ、薄膜形成材料の表面を加熱する予備加熱手段を備えた蒸発源を有する。

請求項（抜粋）：

真空吸収機構を有する密閉系内に、薄膜形成材料を電子銃で加熱しながら、長尺状の基材フィルムを高速走行させ、薄膜形成材料を基材フィルムに連続的に蒸着する巻取式の真空蒸着装置において、薄膜形成材料が中心部から冷却可能な駆動系を有した円柱状支持体に支持され、かつ、薄膜形成材料の表面を加熱する予備加熱手段を備えた蒸発源を有することを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (4件)：

C23C 14/56 , C23C 14/02 , C23C 14/08 , C23C 14/30

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭55-006408
特開昭60-169561
特開昭63-020454

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