特許
J-GLOBAL ID：200903022716340057
廃ガス処理処置及び廃ガス処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-369456
公開番号（公開出願番号）：特開2005-131509
出願日： 2003年10月29日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】 廃ガス処理処置及び廃ガス処理方法を提供する。【解決手段】 廃ガス処理装置は、半導体(またはLCD)製造設備から吐出される廃ガスを湿式処理方式により処理する廃ガス前処理装置を構成して、廃ガス処理装置の寿命を延長させ、最終的に処理されたガスに含まれた湿気を除去する湿気除装置を構成して、排気ダクトに結露が発生することを防止する。また、廃ガスを燃焼させる加熱チャンバの内部に遮蔽ユニットを構成して、加熱チャンバの内部がフッ素系のガスにより腐食することを防止し、加熱チャンバの下部を冷却する冷却構造を改善させて、粉体が凝集されることを解消させるように構成され、加熱チャンバに供給される廃ガスの供給構造を改善して、加熱チャンバの内部に廃ガスが滞留する時間を長くする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
廃ガス処理装置の前段に配置され、廃ガスを湿式前処理するための装置において、
廃ガス前処理用反応剤を微細噴霧気化させるための微細液滴発生器と、
廃ガスを前記微細噴霧気化した反応剤と反応させるための空間を構成するように、外筒と内筒とからなる反応部と、を含み、
前記反応部には、
前記廃ガスが流入される廃ガス引込口と、
前記微細噴霧気化した反応剤が流入される微細液滴反応剤引込口と、
前記廃ガスと前記微細噴霧気化した反応剤との反応により湿式前処理された廃ガスを排出するための排出口と、
前記微細噴霧気化した反応剤と前記廃ガスとの反応により生成される汚染物質を流出するための排水口と、が設けられることを特徴とする廃ガス湿式前処理装置。
IPC (11件)：
B01D53/68
, B01D47/00
, B01D50/00
, B01D53/14
, B01D53/18
, B01D53/46
, B01D53/58
, B01D53/77
, B04C5/20
, B04C5/26
, B04C9/00
B01D53/34 134D
, B01D47/00 B
, B01D47/00 Z
, B01D50/00 501B
, B01D50/00 501J
, B01D50/00 501L
, B01D53/14 C
, B01D53/18 B
, B01D53/18 E
, B01D53/18 Z
, B04C5/20
, B04C5/26
, B04C9/00
, B01D53/34 120A
, B01D53/34 131
, B01D53/34 134C
4D002AA13
, 4D002AA22
, 4D002AA26
, 4D002AA27
, 4D002AA28
, 4D002AA40
, 4D002AC10
, 4D002BA02
, 4D002BA05
, 4D002BA12
, 4D002BA13
, 4D002BA14
, 4D002CA01
, 4D002CA05
, 4D002DA02
, 4D002DA03
, 4D002DA12
, 4D002DA35
, 4D002DA70
, 4D002EA02
, 4D002EA07
, 4D002GA03
, 4D002GB03
, 4D002HA03
, 4D020AA10
, 4D020BA01
, 4D020BA23
, 4D020BB03
, 4D020BC06
, 4D020CB05
, 4D020CB25
, 4D020CB27
, 4D020CC03
, 4D020CD02
, 4D032AC01
, 4D032AC08
, 4D032BA03
, 4D032BA06
, 4D032BB07
, 4D032BB18
, 4D053AA01
, 4D053AA03
, 4D053AB01
, 4D053BA01
, 4D053BA05
, 4D053BB02
, 4D053BB08
, 4D053BC01
, 4D053BD04
, 4D053CF01
, 4D053CG01
, 4D053DA02
出願人引用 (2件)
-
米国特許第5,955,037号明細書
-
米国特許第5,649,985号明細書
審査官引用 (24件)
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