X線回折分析装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉本修司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-037569
公開番号（公開出願番号）：特開平6-082398
出願日： 1993年02月01日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：

【要約】【目的】回折X線分析において、X線を分光する際の強度の低下を防止して、回折X線の強度を強くして、分析精度の向上を図る。【構成】 X線源PからのX線を人工多層膜格子1により単色化させるとともに、試料2にほぼ平行に入射させる。人工多層膜格子1は、X線源Pから入射角θで入射したX線B1を反射面1aにおいて、回折面θで回折して単色化する。この人工多層膜格子1における格子面間隔の周期dは、反射面1aの表面に沿って連続的に大きくなるように設定されている。上記周期dは、X線源Pとの関係では、X線源Pから矢印10のように遠ざかるに従い大きく設定されている。

請求項（抜粋）：

格子面間隔の周期が反射面の表面に沿ってX線源から遠ざかるに従い連続的に大きくなるように設定されて、上記X線源からのX線を回折させて単色化するとともに、発散した状態のままで、かつ、発散角を小さくして第1の回折X線を試料に入射させる人工多層膜格子と、上記試料で回折された第2の回折X線が入射するX線検出器と、上記試料およびX線検出器を1:2の角速比で回転させるゴニオメータとを備えたX線回折分析装置。

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