特許
J-GLOBAL ID：200903022719557537
撮像装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
最上 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-230181
公開番号（公開出願番号）：特開2001-054024
出願日： 1999年08月17日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 スミアによる画質劣化を生じない高画質が得られる撮像装置を提供する。【解決手段】 撮像レンズ1の内部の可動絞り3の近傍に光拡散素子17を設け、CCD撮像素子5の露光と信号読み出しのタイミングに合わせて光拡散素子ドライバ18を駆動し、光拡散素子の拡散特性を変化させることにより、スミア低減撮像を行うことができるようにし、露光時間がスミア限界露光時間未満となる高速シャッタの使用を禁止したり、スミア限界露光時間未満の場合に発音ブザー等で警告を発すると共に絞り値の設定を変更したりするように構成する。
請求項（抜粋）：
予定焦平面に対する出力光学像の状態を被写体結像状態と被写体像拡散状態とに設定可能な撮像光学系と、該撮像光学系の出力光学像を光電変換して画像信号として出力する固体撮像素子と、該固体撮像素子の駆動及び前記撮像光学系を制御して、当該読み出し対象たる画像信号の蓄積期間には前記撮像光学系を前記被写体結像状態とし、前記画像信号の読み出し期間には前記撮像光学系を前記被写体像拡散状態としてスミア低減撮像を可能とする撮像制御手段と、該撮像制御手段が前記スミア低減撮像を可能とする制御を行なう場合には、撮像時の露光時間を前記スミア低減撮像の低減効果に対応して定まる所定値以上に制限する露出制御手段とを有していることを特徴とする撮像装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H04N 5/335 Q
, G03B 15/00 M
5C024AA01
, 5C024CA04
, 5C024CA17
, 5C024EA02
, 5C024EA04
, 5C024EA10
, 5C024FA01
, 5C024GA01
, 5C024GA11
, 5C024HA24
, 5C024HA27
