特許

J-GLOBAL ID：200903022726492165

酸化チタン薄膜の製造方法

発明者： 鷹野 一朗
出願人/特許権者： 帝国化学産業株式会社
代理人 (1件)： 南條 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276119
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098373
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】 プラスチックなどの有機材料を対象とし、変形することのない低温で、有機材料表面に酸化チタン薄膜を形成させる方法を提供すること。【解決手段】 ヘリウムイオンビームをアシストイオンビームとして用いて基板表面に酸化チタンを蒸着させる。ヘリウムイオンビームを用いることにより、加速エネルギーが小さくてすむため、蒸着の際の基板の温度上昇を押さえることができ、熱に弱い有機材料基板上にも酸化チタン薄膜を形成させることができる。

請求項（抜粋）：

イオンビームアシスト反応による酸化チタン薄膜を製造する方法において、ヘリウムイオンビームをアシストイオンビームとして用いて基板表面に酸化チタンを蒸着することを特徴とする、酸化チタン薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 14/48 ,  C01G 23/07 ,  C23C 14/08 ,  H01L 21/203

FI (4件)：

C23C 14/48 D ,  C01G 23/07 ,  C23C 14/08 E ,  H01L 21/203 Z

Fターム (26件)：

4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA17 ,  4K029BA48 ,  4K029CA09 ,  4K029DB03 ,  4K029DB21 ,  5F103AA01 ,  5F103AA10 ,  5F103BB02 ,  5F103BB06 ,  5F103BB16 ,  5F103BB32 ,  5F103BB35 ,  5F103BB38 ,  5F103DD30 ,  5F103GG02 ,  5F103HH04 ,  5F103LL04 ,  5F103NN04 ,  5F103NN06 ,  5F103RR10