特許
J-GLOBAL ID:200903022739545764
露光装置および露光方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 均 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-368441
公開番号(公開出願番号):特開平11-195585
出願日: 1997年12月26日
公開日(公表日): 1999年07月21日
要約:
【要約】【課題】 特に遠紫外光の光を用いて露光を行う露光装置において、大幅な設計変更を加えることなく、光学素子に対する曇り物質の付着を防止でき、しかも運転時には窒息性ガスを用いず、運転コストが安価で安全な露光装置を提供すること。【解決手段】 露光装置30を構成する複数の要素の少なくとも一部を覆うように実質的な密封空間を形成する少なくとも1つの密閉ブロック32a〜32eと、密閉ブロック内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給系50と、密閉ブロック内に、不活性ガスと異なるドライエアを供給するドライエア供給系51と、不活性ガス供給系50により密閉ブロック32a〜32e内に供給される不活性ガスによる当該密閉ブロック内のガス置換率を検出するガスセンサ33と、ガスセンサ33により検出されたガス置換率のデータに基づき、ドライエア供給系により密閉ブロック内に供給されるドライエアの流量を制御する流量制御弁38とを有する。
請求項(抜粋):
露光装置を構成する複数の要素の少なくとも一部を覆うように実質的な密封空間を形成する少なくとも1つの密閉ブロックと、前記密閉ブロック内に第1のガスを供給する第1ガス供給手段と、前記密閉ブロック内に、前記第1のガスと異なる第2のガスを供給する第2ガス供給手段と、前記第1ガス供給手段により前記密閉ブロック内に供給される第1のガスによる当該密閉ブロック内のガス置換率を検出するガスセンサと、前記ガスセンサにより検出されたガス置換率のデータに基づき、前記第2ガス供給手段により前記密閉ブロック内に供給される第2のガスの流量を制御する流量制御手段とを有する露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 516 F
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 B
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