特許
J-GLOBAL ID:200903022752584051

浄化方法および浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-137084
公開番号(公開出願番号):特開2005-319346
出願日: 2004年05月06日
公開日(公表日): 2005年11月17日
要約:
【課題】イオンとしての寿命が長く、十分に微生物の繁殖を防止することができる浄化方法および浄化装置を提供することを目的とする。【解決手段】放電電極2と対向電極3との間に高電圧を印加して両電極の近傍で放電させ、その放電領域で飛散する電子やイオン等の飛散粒子、電位差およびラジカル等によって、前記放電領域を通過する気体、液体、固体などを殺菌、脱臭、有害の物質を除去を行うとともに、前記放電電極2および/または対向電極3に無給水で水を発生させる水発生手段9を設け、前記電極間にて発生した水と放電とを利用して、ラジカルやイオン等、およびそれらを含んだ微細な水粒子を生成し、前記放電領域の下流に放出することで、その放出領域の殺菌、脱臭、有害物質の除去も行うものである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
放電電極と対向電極との間に高電圧を印加して両電極の近傍で放電させ、その放電領域で飛散する電子やイオン等の飛散粒子、電位差およびラジカル等によって、前記放電領域を通過する気体、液体、固体などを殺菌、脱臭、有害の物質を除去を行うとともに、前記放電電極および/または対向電極に無給水で水を発生させる水発生手段を設け、前記電極間にて発生した水と放電とを利用して、ラジカルやイオン等、およびそれらを含んだ微細な水粒子を生成し、前記放電領域の下流に放出することで、その放出領域の殺菌、脱臭、有害物質の除去も行う浄化方法。
IPC (3件):
B01J19/08 ,  A61L9/14 ,  A61L9/22
FI (4件):
B01J19/08 C ,  A61L9/14 ,  A61L9/22 ,  F24F1/00 371B
Fターム (34件):
3L051BC03 ,  3L051BC10 ,  4B021LA41 ,  4B021LA42 ,  4B021LP10 ,  4B021LT03 ,  4B035LC02 ,  4B035LC05 ,  4B035LE03 ,  4B035LP49 ,  4B035LT20 ,  4C080AA06 ,  4C080AA09 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080BB06 ,  4C080HH02 ,  4C080HH03 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK06 ,  4C080MM01 ,  4C080QQ03 ,  4C080QQ11 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075AA22 ,  4G075BA10 ,  4G075CA15 ,  4G075CA80 ,  4G075EA06 ,  4G075EC21 ,  4G075EE12 ,  4G075FA08 ,  4G075FC20
引用特許:
出願人引用 (1件)

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