特許

J-GLOBAL ID：200903022757114517

芳香族シアノメチルアミンの製法

発明者： 森川 宏平 ,  須山 右石 ,  三浦 統生 ,  近藤 英幸
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-197692
公開番号（公開出願番号）：特開平9-040630
出願日： 1995年08月02日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【課題】 芳香族ジニトリルの2個のニトリル基の一方のみを選択的に水素化し芳香族シアノメチルアミンを製造する。【解決手段】 ニッケルおよび/またはコバルトを含有するラネー触媒を前処理した後、該触媒の存在下、芳香族ジニトリルの一方のニトリル基のみを選択的に水素化することを特徴とする芳香族シアノメチルアミンの製法。【効果】 低温低圧で水素化を行い、高選択率、高転化率で目的物が得られる。

請求項（抜粋）：

ニッケルおよび/またはコバルトを含有するラネー触媒を前処理をした後、該触媒の存在下、芳香族ジニトリルの一方のニトリル基のみを選択的に水素還元することを特徴とする芳香族シアノメチルアミンの製法。

IPC (4件)：

C07C255/58 ,  B01J 25/02 ,  C07C253/30 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C255/58 ,  B01J 25/02 X ,  C07C253/30 ,  C07B 61/00 300