特許
J-GLOBAL ID:200903022779417599

電子線照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 半田 昌男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-187191
公開番号(公開出願番号):特開平7-020295
出願日: 1993年06月30日
公開日(公表日): 1995年01月24日
要約:
【要約】【目的】 電子線を空気雰囲気中で照射した際に発生するオゾンの量を低減することができる電子線照射装置を提供する。【構成】 電子線を空気雰囲気中で照射し、被処理物に所望の処理を行う場合には、ビーム電流を電子線有効取出窓面積で割った値である電流密度を少なくとも6×10-2mA/cm2 に設定する。これにより、オゾン分解反応がオゾン生成反応に対して支配的になるので、照射室20内に発生するオゾンの量を低減することができる。
請求項(抜粋):
線状の陰極から放出された熱電子を電子線として取り出し、前記電子線を加速する電子線発生部と、被処理物に前記電子線を照射する照射室と、前記電子線発生部内の真空雰囲気と前記照射室内の雰囲気とを仕切ると共に前記電子線を通過させる照射窓部とを備える電子線照射装置において、前記電子線発生部から前記照射室内に前記電子線を有効に取り出すことができる前記照射窓部の面積でビーム電流を割った値である電流密度を少なくとも6×10-2mA/cm2 としたことを特徴とする電子線照射装置。

前のページに戻る