特許
J-GLOBAL ID:200903022780799268

半導体レーザ素子及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 草野 卓 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-303811
公開番号(公開出願番号):特開平7-162074
出願日: 1993年12月03日
公開日(公表日): 1995年06月23日
要約:
【要約】【目的】 放射光の断面を円形に近づける。【構成】 活性層33の一端に、これを延長するように導波部34が形成され、導波部34は活性層33と同一材で成り、その厚さは活性層よりも厚く、幅は活性層より狭くされている。
請求項(抜粋):
活性層の延長上において、その活性層に一端が接し、活性層よりも膜厚が厚く、幅が狭い導波部が形成されていることを特徴とする半導体レーザ素子。

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