特許
J-GLOBAL ID:200903022786878461

排一酸化二窒素ガスの処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-158119
公開番号(公開出願番号):特開平5-004027
出願日: 1991年06月28日
公開日(公表日): 1993年01月14日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 アジピン酸の製造工程で副生するN2Oを含む排ガスのN2Oガスを効率的に処理する方法【構成】 シクロヘキサノール又はシクロヘキサノン又はそれらの混合物を硝酸酸化してアジピン酸を製造する工程で、副生する一酸化二窒素を含む排ガスを酸化第二銅触媒の存在下で連続的に窒素と酸素に分解し、分解の際に発生する熱で水蒸気を発生させ、予熱器を加熱する。【効果】 排ガス中のN2Oを長期連続的に安定して窒素と酸素に分解し、分解の際に発生する熱を有効に回収することができる。
請求項(抜粋):
シクロヘキサノール又はシクロヘキサノン又はそれらの混合物を硝酸酸化してアジピン酸を製造する工程で、副生する一酸化二窒素を含む排ガスを酸化第二銅触媒の存在下で連続的に窒素と酸素に分解することを特徴とする排一酸化二窒素ガスの処理方法。
IPC (6件):
B01D 53/36 102 ,  B01D 53/36 101 ,  B01J 23/72 ,  C07C 51/27 ,  C07C 51/42 ,  C07C 55/14
引用特許:
審査官引用 (12件)
  • 特開昭55-054960
  • 特開昭55-129134
  • 特開昭63-007826
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