特許

J-GLOBAL ID：200903022787906469

カラーフィルタの製造方法、電気光学装置及び電子機器

発明者： 小田切 頼広 ,  瀧澤 圭二 ,  加藤 達矢
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-203010
公開番号（公開出願番号）：特開2004-045757
出願日： 2002年07月11日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】生産工程が効率的であり、反射型の明るさと透過型表示の彩度を共に確保することを可能とした半透過反射型カラーフィルタ基板の製造方法を提供する。【解決手段】半透過反射型カラーフィルタ基板は、1つの画素領域に対して、透過型カラーフィルタ部分と反射型カラーフィルタ部分を有する。透過モードにおいて、バックライトからの光は着色層を1回通過し、反射モード時、表示装置に入射した外光は、下層に配置された反射板によって、着色層を2回通過することになる。したがって、透過領域と反射領域のカラーフィルタ膜厚を検討することにより、電気光学表示装置の彩度および明るさを改善することができる。本発明は、ハーフトーンマスクを用いることにより、従来と同じマスク数にも関らず、透過領域と反射領域のカラーフィルタ膜厚差を大きくとることを可能にしている。したがって、本発明は、プロセスを増やすことなく、表示品位の高い半透過反射型電気光学装置を得ることができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上に、透過表示領域及び反射表示領域を規定する工程と、 前記透過表示領域及び前記反射表示領域に着色層を形成する工程と、 全透過領域、中間透過率領域及び遮光領域を有するマスクを使用して、前記透過表示領域及び前記反射表示領域における膜厚が異なるように、前記着色層をパターニングする工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。

IPC (4件)：

G02B5/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/20

FI (5件)：

G02B5/20 101 ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1335 505 ,  G02F1/1335 525 ,  G03F7/20 501

Fターム (43件)：

2H048BA11 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB07 ,  2H048BB10 ,  2H048BB42 ,  2H088FA10 ,  2H088FA11 ,  2H088FA16 ,  2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088GA02 ,  2H088HA02 ,  2H088HA06 ,  2H088HA12 ,  2H088HA14 ,  2H088HA21 ,  2H088MA02 ,  2H088MA05 ,  2H088MA16 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA14Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FD04 ,  2H091FD06 ,  2H091FD12 ,  2H091FD14 ,  2H091FD22 ,  2H091FD23 ,  2H091FD24 ,  2H091GA03 ,  2H091GA13 ,  2H091GA16 ,  2H091HA05 ,  2H091LA03 ,  2H091LA11 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H091LA18 ,  2H097LA12