特許

J-GLOBAL ID：200903022799229292

熱処理装置及びガス処理装置

発明者： 大加瀬 亘
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-225729
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054496
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 装置を小型化できると共に、高いスル-プットが得られ、しかも均一な熱処理を行うことができて、金属部分の腐食を抑えることができる熱処理装置を提供すること。【解決手段】 側面に搬入出口11が形成された金属製チャンバ1の中に石英容器2を設け、石英容器2の内部には底部に載置部24を設けると共に、上部側に昇降自在な処理ガス供給部5を設ける。処理ガス供給部5の周縁部に、熱処理時に載置部24との間の処理雰囲気を囲む側壁部51を設け、先ず処理ガス供給部5を第1の高さ位置に配置して、ウエハWを搬入して載置部24上に載置し、次いで処理ガス供給部5を第2の高さ位置まで下降させて熱処理を行う。熱処理時には、処理ガス供給部5と載置部24との間に小さな処理室が形成されるので、処理ガスの置換時間が短くなり、スル-プットが向上する。

請求項（抜粋）：

側面に被処理基板の受け渡し口が形成されたチャンバと、このチャンバ内に設けられ、被処理基板をほぼ水平に保持するための載置部と、この載置部に載置された被処理基板を加熱するための加熱部と、前記載置部に載置された被処理基板の被処理面に対向しかつ昇降自在に設けられ、被処理基板に処理ガスを供給するための処理ガス供給部と、この処理ガス供給部と載置部との間の処理雰囲気を囲むように処理ガス供給部の周縁部に設けられた囲い部分と、を備え、前記処理ガス供給部は、被処理基板が前記チャンバ内と外部との間で受け渡されるときには、前記囲い部分が前記受け渡し口を覆わない第1の高さ位置にあり、また被処理基板が熱処理されるときには前記囲い部分が前記受け渡し口を覆って被処理基板を囲むように第2の高さ位置にあることを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511

FI (3件)：

H01L 21/31 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 A