特許
J-GLOBAL ID：200903022812432230
微細構造物の乾燥装置
出願人/特許権者：
株式会社日立サイエンスシステムズ
株式会社日立サイエンスシステムズ について
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-124170
公開番号（公開出願番号）：特開2002-318073
出願日： 2001年04月23日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：
【要約】【課題】微細構造物の乾燥装置において、乾燥媒体の乾燥室への初期導入量を増加させることで乾燥媒体の液面を高め、被乾燥物が乾燥媒体の液面下になるようにすることで、制御外乾燥を防止する。【解決手段】微細構造物の乾燥装置用の乾燥媒体の充填されているボンベの温度を計測する機能を備えること、該ボンベの温度をボンベ内乾燥媒体の蒸気圧を高く保てる温度に常に制御できる機構を備えること、また該ボンベ内の圧力を計測できる機能を備えたこと。
請求項（抜粋）：
微細構造物を洗浄して乾燥する乾燥媒体として液化ガスを用いる微細構造物の乾燥装置において、前記微細構造物を収容し、かつ前記液化ガスが供給される乾燥室と、液化ガスの供給源であるボンベ等の充填容器と、該充填容器の温度を測定する温度計測手段とを備え、前記計測手段の測定値に基づいて前記乾燥室の温度を制御することを特徴とする微細構造物の乾燥装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (16件)：
3L113AA01
, 3L113AB02
, 3L113AC01
, 3L113AC28
, 3L113AC45
, 3L113AC46
, 3L113AC50
, 3L113AC57
, 3L113AC67
, 3L113BA01
, 3L113CA08
, 3L113CA10
, 3L113CB19
, 3L113CB23
, 3L113CB28
, 3L113DA24
引用特許：
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