特許
J-GLOBAL ID:200903022814338516

抗日光化粧品組成物およびその使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-133071
公開番号(公開出願番号):特開平7-330564
出願日: 1995年05月31日
公開日(公表日): 1995年12月19日
要約:
【要約】【目的】 紫外線照射から皮膚もしくは髪を保護する化粧品組成物およびその使用方法を提供する。【構成】 化粧品として許容される担体中に、下記(i)、(ii)を必須の成分として含有する。(i) UV-B領域において活性なスクリーン剤として、溶解した形態での4-メチルベンジリデンショウノウ。(ii) 単独で上記UV-Bスクリーン剤を全て溶解するのに十分な量の2-エチルヘキシル=α-シアノ-β,β-ジフェニルアクリラート。
請求項(抜粋):
化粧品として許容される担体中に、(i)UV-B領域において活性なスクリーン剤として、溶解した形態での4-メチルベンジリデンショウノウ(化合物A)と、(ii)単独で上記UV-Bスクリーン剤を全て溶解するのに十分な量の2-エチルヘキシル=α-シアノ-β,β-ジフェニルアクリラート(化合物B)とを含有することを特徴とする、皮膚および/または髪の光保護等のための、局所使用用化粧品組成物。
IPC (6件):
A61K 7/42 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/11 ,  C09K 3/00 104
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭60-237013
  • 特開昭62-265215
  • 特表平5-504572

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