特許

J-GLOBAL ID：200903022830476147

調節されたアミン基密度と空間を提供する分子層を表面に含む基質及びその製造方法

発明者： パク, ジュン-ウォン ,  シム, ジォ-ヨング ,  ムン, ジュン-ホ ,  ホン, ボン-ジン
出願人/特許権者： ポハン アイアン アンド スチール カンパニー リミテッド ,  ポハン ユニヴァーシティ オブ サイエンス アンド テクノロジー
代理人 (2件)： 荒船 博司 ,  荒船 良男
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-525092
公開番号（公開出願番号）：特表2004-508349
出願日： 2001年09月05日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

本発明はバイオチップ等に有益な基板に関し、アミンの面密度が低い分子層を備えていて、カルボキシ酸を有するN-CBZ-[1]amine-[9]acidとして表される化学式(1)の化合物を提供し、基板に備わる表面が有する分子層を作る反応は基板のアミノシリル化表面のアミン基と化学式(1)で表され錐形になっている化合物とで行われ、その製造方法も提供する。

請求項（抜粋）：

下記の化学式(1)で表示される化合物であって、

IPC (3件)：

C07C271/48 ,  C07C269/04 ,  C07C269/06

FI (3件)：

C07C271/48 ,  C07C269/04 ,  C07C269/06

Fターム (7件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC53 ,  4H006AC56 ,  4H006RA24 ,  4H006RB04 ,  4H006RB34