特許
J-GLOBAL ID：200903022853408424
位相シフトマスクのシフタの位相差測定方法およびそれに用いるマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178668
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083068
出願日： 1997年07月03日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：
【要約】【課題】本発明は、位相シフト材料における位相差を測定する容易で、正確で、コスト効率のよい方法を得ることを目的とする。【解決手段】不透明材料からなる第1のパターンと位相シフト材料からなる第2のパターンとを有するマスクを光透過性の基板上に形成し、このマスクを通して感光性材料を露光し、現像し、イメージショートニングを利用して第1のパターンに基づいて生成された第1のパターンの不透明材料マスクの最良の焦点位置と、第2のパターンに基づいて生成された第2のパターンの位相シフト材料マスクの最良の焦点位置とを決定し、不透明材料マスクの最良の焦点位置20と位相シフト材料マスクの最良の焦点位置30とを比較して不透明材料マスクの最良の焦点位置からの位相シフト材料マスクの最良の焦点位置のシフト50を決定し、それに基づいて位相シフト材料の位相差量を測定する。
請求項（抜粋）：
位相シフト材料による位相差を測定する方法において、不透明材料で構成された第1のパターンと前記位相シフト材料で構成された第2のパターンとを有するマスクを光透過性の基板上に形成し、前記マスクを通して感光性材料上に光を透過させることによって前記感光性材料を露光し、露光された前記感光性材料を現像し、前記第1のパターンに基づいて前記感光性材料を露光することによって生成された第1のパターンの不透明材料マスクの最良の焦点位置を決定し、前記第2のパターンに基づいて前記感光性材料を露光することによって生成された第2のパターンの位相シフト材料マスクの最良の焦点位置を決定し、前記不透明材料マスクの最良の焦点位置と前記位相シフト材料マスクの最良の焦点位置とを比較して前記不透明材料マスクの最良の焦点位置からの前記位相シフト材料マスクの最良の焦点位置のシフト量を決定し、前記不透明材料マスクの最良の焦点位置からの前記位相シフト材料マスクの最良の焦点位置の前記シフト量に基づいて前記位相シフト材料によって生じた位相差を決定することを特徴とする位相差測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 S
, H01L 21/30 502 P
