特許
J-GLOBAL ID：200903022868120117
アライメントマーク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-071656
公開番号（公開出願番号）：特開平8-273997
出願日： 1995年03月29日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】【目的】 高温アルミスパッタ/リフロー法を使用したAl合金膜が形成されても、アライメントマークを構成する溝が埋め込まれることがなく、的確なアランメントができるアライメントマークを提供する。【構成】 基板12上に形成される十字形状の溝13からなるアライメント本体と、前記十字形状の溝13の周囲に0.1μm〜2.0μmの間隔をおいてこの十字形状の溝13の面積以下の正方形の孔14を高密度に配列させる。
請求項（抜粋）：
(a)基板上に凹部が形成される二次元形状のアライメント本体と、(b)該アライメント本体のまわりに0.1μm〜2.0μmの間隔をおいて前記基板に被着される膜によって、前記凹部が埋め込まれないように、前記被着される膜を吸収する凹部を具備することを特徴とするアライメントマーク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 541 K
