特許

J-GLOBAL ID：200903022875798498

ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法

発明者： 米田 幸弘 ,  渋沢 文生 ,  新谷 恭宏 ,  上岡 正敏
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-286974
公開番号（公開出願番号）：特開2001-106654
出願日： 1999年10月07日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：

【要約】【課題】 蒸留工程においてジエステル、(メタ)アクリル酸ダイマ-等の副生を抑え、且つ、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ-トの純度を確保でき、重合などのトラブルを起こさずに安定運転可能な、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ-トの精製方法を提供する。【解決手段】 触媒の存在下でアルキレンオキシドと(メタ)アクリル酸とを反応させ、反応後の反応液中の未反応アルキレンオキシドおよび/または未反応(メタ)アクリル酸を除去して得られるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法において、空塔部分を有する蒸留装置と薄膜式蒸発装置とを併用する。

請求項（抜粋）：

触媒の存在下でアルキレンオキシドと(メタ)アクリル酸とを反応させ、反応後の反応液中の未反応アルキレンオキシドおよび/または未反応(メタ)アクリル酸を除去して得られるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法において、空塔部分を有する蒸留装置と薄膜式蒸発装置とを併用することを特徴とする、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法。

IPC (6件)：

C07C 67/54 ,  B01D 1/22 ,  B01D 3/00 ,  C07C 67/26 ,  C07C 67/62 ,  C07C 69/54

FI (6件)：

C07C 67/54 ,  B01D 1/22 A ,  B01D 3/00 A ,  C07C 67/26 ,  C07C 67/62 ,  C07C 69/54 Z

Fターム (20件)：

4D076AA07 ,  4D076AA16 ,  4D076BA11 ,  4D076BB01 ,  4D076BB03 ,  4D076EA14Z ,  4D076FA12 ,  4D076FA31 ,  4D076JA02 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC48 ,  4H006AD11 ,  4H006BA94 ,  4H006BC51 ,  4H006BC52 ,  4H006BD82 ,  4H006BD84 ,  4H006BT12 ,  4H006KA19

引用特許：

審査官引用 (2件)

• (メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-042192   出願人：三菱レイヨン株式会社
• アクリル酸またはメタクリル酸エステルのミカエル付加物の分解方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-338357   出願人：東亞合成株式会社