特許

J-GLOBAL ID：200903022878526669

有機ELディスプレイの製造方法

発明者： 平野 貴之 ,  笹岡 龍哉 ,  関谷 光信 ,  佐野 直樹 ,  中山 徹生
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-286163
公開番号（公開出願番号）：特開2000-113982
出願日： 1998年10月08日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 走査側の電極の抵抗を小さくでき、しかも有機層で発光した光の有効活用率を高めた有機ELディスプレイの製造方法の提供が望まれている。【解決手段】 透光性基板20上に透明導電材料からなるストライプ状の第1の電極21を並列して形成し、次に、透光性基板上20に、第1の電極21上に開口する開口部22を有した絶縁層23を形成し、次いで、絶縁層23を覆った状態で透光性基板20上に、有機発光材料からなる膜を有した有機膜24と第2の電極材料膜25と保護膜26とをこの順に成膜積層し、続いて、保護膜26上に島状に独立したレジストパターン28を形成し、次いで、レジストパターン28をマスクにして有機膜24と第2の電極材料膜25と保護膜26とからなる積層膜27をエッチングし、その後、有機層24と第2の電極25と保護層26とからなる積層体27を独立した島状にパターニングする有機ELディスプレイの製造方法。

請求項（抜粋）：

透光性基板上に透明導電材料からなるストライプ状の第1の電極を複数並列して形成する第1の電極形成工程と、前記透光性基板上に、第1の電極上にて開口する開口部を複数有した絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層を覆った状態で透光性基板上に、少なくとも有機発光材料からなる膜を有した有機膜と第2の電極材料膜と保護膜とをこの順に成膜積層する積層工程と、前記保護膜上における前記開口部の直上位置に、島状に独立したレジストパターンを複数形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターンをマスクにして有機膜と第2の電極材料膜と保護膜とからなる積層膜をエッチングし、有機層と第2の電極と保護層とからなる積層体を独立した島状にパターニングするパターニング工程と、を備えてなることを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (4件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z

Fターム (14件)：

3K007AB00 ,  3K007AB02 ,  3K007AB04 ,  3K007AB05 ,  3K007AB12 ,  3K007AB15 ,  3K007BA06 ,  3K007BB00 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01