特許
J-GLOBAL ID:200903022897016078
II-VI族化合物半導体素子用電極及びその形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内田 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-281996
公開番号(公開出願番号):特開平10-126003
出願日: 1996年10月24日
公開日(公表日): 1998年05月15日
要約:
【要約】【課題】 II-VI族化合物半導体素子のp型II-VI族化合物半導体層との接触抵抗を低減させ、界面のエネルギー障壁の小さなp型電極及びその形成方法を提供しようとするものである。【解決手段】 II-VI族化合物半導体層上に設ける電極において、V,W,Mo,Cr,Fe,Ru及びReの群から選択される1つ以上の元素の酸化物で構成したII-VI族化合物半導体素子用電極である。
請求項(抜粋):
II-VI族化合物半導体素子に用いる電極において、該電極をV,W,Mo,Cr,Fe,Ru及びReの群から選択される1つ以上の元素の酸化物で構成したことを特徴とするII-VI族化合物半導体素子用電極。
IPC (3件):
H01S 3/18
, H01L 21/28 301
, H01L 21/28
FI (3件):
H01S 3/18
, H01L 21/28 301 Z
, H01L 21/28 301 B
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