特許
J-GLOBAL ID：200903022910048162
光ディスクの製造方法および製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-004340
公開番号（公開出願番号）：特開2000-207789
出願日： 1999年01月11日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：
【要約】【課題】 高NAレンズを用いた光ディスク用ヘッドに対応可能であり、基板とは反対の方向から記録再生を行う光ディスクにおいて、光ディスクの記録膜層の腐食を防止し、保存耐久性に優れた光ディスクを作製する。【解決手段】 スパッタリング装置において、光ディスクの構成層を形成する際、スパッタリングチャンバ内に内周マスク2および外周マスク3を配し、蒸着領域を制御することにより、SiN等の誘電体で記録膜の外周部を完全に封止する。
請求項（抜粋）：
基板ディスク上に少なくとも熱拡散層、第2誘電体膜層、記録膜層、第1誘電体膜層の各層をスパッタリング法によりこの順に積層する光ディスクの製造方法において、スパッタリングチャンバ内に内周マスクと外周マスクとを配し、上記内周マスクと外周マスクとの大きさを調整し、所定の成膜領域において上記熱拡散層、上記第2誘電体膜層、上記記録膜層を成膜する第1工程と、上記内周マスクと上記外周マスクとの大きさを調整し、上記第1工程よりも成膜領域を広く設定することにより上記第1誘電体膜層を上記第1工程にて成膜した記録膜層の外周部を封止するように成膜する第2工程と、を経てスパッタリングにより上記各層を積層すること、を特徴とした光ディスクの製造方法。
Fターム (6件)：
5D121AA01
, 5D121AA02
, 5D121AA03
, 5D121AA04
, 5D121EE03
, 5D121EE20
