特許

J-GLOBAL ID：200903022914161621

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクおよびハーフトーン型位相シフトマスク

発明者： 松尾 正 ,  原口 崇 ,  金山 浩一郎
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-188627
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005349
出願日： 2001年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：

【要約】【課題】短波長領域においても透過率が高く、膜中の粒子欠陥も少なく、化学的にも安定であり、得られる位相差の面でも問題がないハーフトーン型の位相シフトマスク、およびそのような位相シフトマスクを製造することが可能な位相シフトマスク用ブランクを提供することが望まれていた。【解決手段】透明基板上に、透過率および透過した後の位相が制御される単層膜もしくは多層膜からなる半透明膜層が設けられてなるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、前記半透明膜層の少なくとも1層に含まれる、酸素、窒素以外の主要構成元素が2種類の金属元素であり、その一方がアルミニウムであり、他方が遷移金属であることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクを提供する。

請求項（抜粋）：

透明基板上に、透過率および透過した後の位相が制御される単層膜もしくは多層膜からなる半透明膜層が設けられてなるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、前記半透明膜層の少なくとも1層に含まれる、酸素、窒素以外の主要構成元素が2種類の金属元素であり、その一方がアルミニウムであり、他方が遷移金属であることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 G ,  G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BC24