特許

J-GLOBAL ID：200903022929288865

イオンフロー静電記録ヘッドの製造方法

発明者： 志賀 直仁
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-084605
公開番号（公開出願番号）：特開平7-290756
出願日： 1994年04月22日
公開日（公表日）： 1995年11月07日
要約：

【要約】【目的】本発明は第2電極と誘電体層との間を強固に固着し、第1電極と第2電極との間の位置ずれの発生を防止して第2電極の各開口部からのイオン発生量のばらつきを防止するとともに、画質を均一化し、耐久性を向上させることを最も主要な特徴とする。【構成】誘電体層14の両面に無電解メッキを施して第1電極13および第2電極15を形成する電極成形工程を設けたものである。

請求項（抜粋）：

絶縁基板上に一方向にかつ平行に延設された複数の第1電極と、この第1電極と交差する方向に延設され、前記第1電極とともにマトリックスを形成し、このマトリックスに対応する部位に開口部が形成された複数の第2電極と、この第2電極に対して前記第1電極とは反対側に配置され、前記マトリックスに対応する部位に開口部が形成された第3電極と、前記第1電極と第2電極との間に設けられた誘電体層と、前記第2電極と第3電極との間に設けられ、前記マトリックスに対応する部位に開口部が形成された絶縁層とを具備するイオンフロー静電記録ヘッドの積層体を形成する積層体形成工程中に、前記誘電体層の両方の露出面のうち、少なくともいずれか一方の露出面に、無電解メッキを施して前記第1電極、または前記第2電極のうち、少なくともいずれか一方を形成する電極成形工程を設けたことを特徴とするイオンフロー静電記録ヘッドの製造方法。