特許
J-GLOBAL ID：200903022942083652
レーザ加工装置及び加工用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-271429
公開番号（公開出願番号）：特開平7-124777
出願日： 1993年10月29日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：
【要約】【目的】加工精度を向上させたレーザ加工装置を提供すること。【構成】レーザ発振器、レーザ発振器より放出されたレーザビームを整形するための光学系、レーザ光を実質的に透過し得る材料からなる基板5とこの上に配置された、レーザ光を反射するARコート膜11のパターンとからなる加工用マスク5b及びこの加工用マスク5bを通過したレーザビーム8bにより照射される被加工物6bを保持する保持手段からなるレーザ加工装置。
請求項（抜粋）：
レーザ光を実質的に透過し得る材料からなる基板と、該基板上に配置された、レーザ光を反射する反射膜のパターンとからなることを特徴とする加工用マスク。
IPC (2件)：
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