特許
J-GLOBAL ID:200903022963514734

分子線源

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井桁 貞一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-167413
公開番号(公開出願番号):特開平9-020587
出願日: 1995年07月03日
公開日(公表日): 1997年01月21日
要約:
【要約】【目的】 分子線源に関し、分子線強度を安定化することを目的とする。【構成】 ソース材を収納するルツボと、該ソース材を覆うようにルツボ内に挿入された遮蔽板とを備え、ソース材から発生させた分子線を遮蔽板を介して外部へ射出するようにした分子線源であって、該遮蔽板はソース材が変形したときそれに応じてルツボ内で移動可能となるように構成する。
請求項(抜粋):
ソース材を収納するルツボと、該ソース材を覆うようにルツボ内に挿入された遮蔽板とを備え、ソース材から発生させた分子線を遮蔽板を介して外部へ射出するようにした分子線源であって、該遮蔽板はソース材が変形したときそれに応じてルツボ内で移動可能となっていることを特徴とする分子線源。
IPC (2件):
C30B 23/08 ,  H01L 21/203
FI (2件):
C30B 23/08 M ,  H01L 21/203 M

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