光記録原盤のマスタリング装置および方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西教圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-321972
公開番号（公開出願番号）：特開平9-161298
出願日： 1995年12月11日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】小型で高速変調が可能な短波長光源を用いて、高密度のマスタリングを短時間で実施できる光記録原盤のマスタリング装置および方法を提供する。【解決手段】表面に感光剤が形成された光記録原盤Mを走査しながら、記録信号に基づいて変調されたレーザビームで該感光剤を露光するように構成された光記録原盤のマスタリング装置において、レーザビームを発生する光源が和周波レーザ光源であって、共振器60の内部に配置され、基本波光を発振するレーザ媒質61および該基本波光とミキシング光とに基づいて和周波光を発生する非線形光学素子62と、共振器60の外部に配置され、レーザ媒質61を励起する励起光を発生する半導体レーザ30と、共振器60の外部に配置され、ミキシング光を発生する半導体レーザ70と、記録信号に基づいて半導体レーザ70の駆動電流を変調する変調回路71とを備える。

請求項（抜粋）：

表面に感光剤が形成された光記録原盤を走査しながら、記録信号に基づいて変調されたレーザビームで該感光剤を露光するように構成された光記録原盤のマスタリング装置において、レーザビームを発生する光源が、和周波レーザ光源であって、共振器内部に配置され、基本波光を発振するレーザ媒質および該基本波光とミキシング光とに基づいて和周波光を発生する非線形光学素子と、共振器外部に配置され、レーザ媒質を励起する励起光を発生する第1半導体レーザと、共振器外部に配置され、ミキシング光を発生する第2半導体レーザと、記録信号に基づいて、第2半導体レーザの駆動電流を変調する変調回路とを備えることを特徴とする光記録原盤のマスタリング装置。

IPC (3件)：

G11B 7/125 , G02F 1/35 , G11B 7/26 501

FI (3件)：

G11B 7/125 A , G02F 1/35 , G11B 7/26 501

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