特許
J-GLOBAL ID:200903023005111701
有機EL素子の製造方法、有機EL素子、及び電子機器
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
西 和哉
, 志賀 正武
, 青山 正和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-089742
公開番号(公開出願番号):特開2007-265823
出願日: 2006年03月29日
公開日(公表日): 2007年10月11日
要約:
【課題】有機EL素子の更なる長寿命化及び高発光効率化を図ると共に、生産性の更なる向上を可能とした有機EL素子の製造方法を提供する。【解決手段】陽極層3を形成する工程と、陽極層3上に正孔注入輸送層6及び発光層7を含む機能層5を形成する工程と、機能層5上に陰極層4を形成する工程とを有し、機能層5を形成する工程において、有機層材料を有機溶媒に溶解または分散させた液状体を塗布して乾燥させることにより発光層6を形成すると共に、有機溶媒には、主溶媒と、この主溶媒よりも沸点の低い少なくとも1種以上の副溶媒とを含み、且つ、主溶媒に対して副溶媒を10重量%以上50重量%以下の割合で含む混合溶媒を用いる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1の電極層を形成する工程と、
前記第1の電極層上に少なくとも有機層を含む機能層を形成する工程と、
前記機能層上に第2の電極層を形成する工程とを有し、
前記機能層を形成する工程において、有機層材料を有機溶媒に溶解または分散させた液状体を塗布して乾燥させることにより前記有機層を形成すると共に、
前記有機溶媒には、主溶媒と、この主溶媒よりも沸点の低い少なくとも1種以上の副溶媒とを含み、且つ、前記主溶媒に対して前記副溶媒を10重量%以上50重量%以下の割合で含む混合溶媒を用いることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/10
, H01L 51/50
, G09F 9/00
FI (3件):
H05B33/10
, H05B33/14 A
, G09F9/00 338
Fターム (17件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB03
, 3K107CC33
, 3K107CC45
, 3K107DD70
, 3K107FF05
, 3K107FF14
, 3K107GG06
, 5G435AA03
, 5G435AA14
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435CC09
, 5G435HH20
, 5G435KK05
, 5G435KK10
引用特許:
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