特許
J-GLOBAL ID：200903023020008810
パ-ティクルモニタ-方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-089473
公開番号（公開出願番号）：特開平11-337472
出願日： 1996年10月25日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】 ウェハ上空間に存在するパーティクルをin-situ・リアルタイムで計測し、パーティクル誘起不良の発生を事前に防止する。【解決手段】 プロセス装置12中に浮遊しているパーティクルによるレーリー散乱光やラマン散乱光を受光器13で電気信号に変換し、信号強度判定器14に伝達する。この判定器には、予めパーティクル発生状況とウェハ歩留まりの相関に基づいた散乱光強度が設定されている。得られた散乱光強度と設定値との大小関係に応じて、その状況を信号表示器15またはプロセス制御器16へ伝達し、制御器16は、判定器14での結果に対応した信号をin-situクリーニング器17またはオーバーホール用停止器18に伝え、これらの作動をスタンバイまたは実際に作動させる。
請求項（抜粋）：
光源と、プロセス装置と、前記光源からの光の偏光状態を所望の状態にする光学的手段と、前記光学的手段からの光を前記プロセス装置に導入する手段と、前記プロセス装置内からの散乱光または発光の偏光状態を波長板を回転して測定する受光手段とを有するプロセス中のパーティクルをモニターするパーティクルモニター装置を用いて、前記プロセス装置内の散乱光または発光を引き起こす物質の屈折率から、前記プロセス装置内の散乱光または発光を引き起こす物質が前記プロセス装置のプロセス中で発生した物質か前記プロセス装置内壁からの剥離による物質であるかを区別することを特徴とするパーティクルモニター方法。
IPC (4件)：
G01N 15/14
, G01N 21/21
, G01N 21/49
, H01L 21/66
G01N 15/14 D
, G01N 21/21 Z
, G01N 21/49 Z
, H01L 21/66 J
