特許

J-GLOBAL ID：200903023070904794

表面検査装置

発明者： 上原 由里江
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 寒川 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-044701
公開番号（公開出願番号）：特開平5-240797
出願日： 1992年03月02日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：

【要約】【目的】 半導体ウェーハ、マスク等の被検査物表面に付着した微小な異物の有無を検査する表面検査装置に関し、微小な異物を確実に検出することのできる表面検査装置を提供することを目的とする。【構成】 加湿空気を供給する加湿空気供給手段2を有する容器1と、容器1中に設けられる被検査物支持装置4と、被検査物支持装置4を冷却する冷却手段6と、被検査物支持装置4に支持される被検査物5の全面に光ビームを掃引する光照射装置7と、被検査物5からの散乱光を受光する受光装置8とをもって構成される。なお、被検査物支持装置に代えて、容器中に被検査物を搬送する搬送手段を設けることができる。

請求項（抜粋）：

加湿空気を供給する加湿空気供給手段(2)を有する容器(1)と、該容器(1)中に設けられる被検査物支持装置(4)と、該被検査物支持装置(4)を冷却する冷却手段(6)と、前記被検査物支持装置(4)に支持される被検査物(5)の全面に光ビームを掃引する光照射装置(7)と、前記被検査物(5)からの散乱光を受光する受光装置(8)とを有することを特徴とする表面検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/30 ,  G01B 11/30 101 ,  H01L 21/66