特許
J-GLOBAL ID：200903023073096435
エキシマレーザ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-177385
公開番号（公開出願番号）：特開平7-009183
出願日： 1993年06月24日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：
【要約】【目的】 エキシマレーザ光の照射によって飛散した有機高分子材料が光学系に付着することに起因する光学系の光学特性の劣化を防止する。【構成】 本発明のエキシマレーザ加工装置は、エキシマレーザ発振器1と、有機高分子材料からなる被加工物10を支持して移動させるための移動ステージ11と、エキシマレーザ光を導いてマスクホルダ8に支持されたマスク7を通して被加工物10に照射する光学系を備えている。光学系は、エキシマレーザ光の光路に沿って順次配設された第1の全反射ミラー4a、第2の全反射ミラー4b、インテグレーターレンズ5、第3の全反射ミラー4c、照明系レンズ6および縮小投影レンズ9を備え、前記移動ステージ11とともに、カバー2で覆われており、カバー2の適宜部位にはオゾンを供給するためのオゾン発生器3が連通されている。
請求項（抜粋）：
エキシマレーザ発振器と、有機高分子材料からなる被加工物を支持して移動させるための移動ステージと、前記エキシマレーザ発振器より出射されたエキシマレーザ光を前記被加工物に照射するための光学系を備えたエキシマレーザ加工装置において、前記光学系および前記移動ステージを覆うカバーと、前記カバー内へオゾンを供給するためのオゾン源を備えたことを特徴とするエキシマレーザ加工装置。
IPC (3件)：
B23K 26/12
, B23K 26/00
, B23K 26/16
