特許
J-GLOBAL ID：200903023084566557
リソグラフィ用反射型マスクおよび縮小投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-258085
公開番号（公開出願番号）：特開平7-114173
出願日： 1993年10月15日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：
【要約】【目的】軟X線あるいは真空紫外線を用いたリソグラフィに使用されるハーフトーンタイプの反射型マスクに関し、吸収体の満たすべき条件を明確にする。【構成】反射膜2上に形成される吸収体パターン3を構成する物質の光学定数を1-δ-ik(δ,kは実数、iは虚数単位)と表わし、使用波長をλとするとき、?@0.29<k/|δ|<1.12が成立するようにし、?A吸収体パターン3の厚さdが3λ/(16|δ|)<d<5λ/(16|δ|)を満たすようにする。
請求項（抜粋）：
原版としてのパターンが形成され光源からの軟X線あるいは真空紫外線を反射して露光対象に前記パターンを投影するために使用されるリソグラフィ用反射型マスクにおいて、前記パターンが、前記軟X線あるいは真空紫外線を反射する反射部の上に設けられた吸収体パターンで構成され、前記軟X線あるいは真空紫外線の波長をλとし、前記吸収体パターンをなす物質の光学定数を1-δ-ik(δ,kは実数、iは虚数単位)と表わす時、0.29<k/|δ|<1.12が成立し、前記吸収体パターンの厚さdが3λ/(16|δ|)<d<5λ/(16|δ|)を満たすことを特徴とするリソグラフィ用反射型マスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 1/16
, H01L 21/027
