特許
J-GLOBAL ID:200903023086493271

排ガス浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-296749
公開番号(公開出願番号):特開2005-069040
出願日: 2003年08月20日
公開日(公表日): 2005年03月17日
要約:
【課題】 プラズマ発生のために好適な電極間の電位差を確保しつつ、ハニカム構造体におけるPMの付着位置を制御できるような手段を提供する。【解決手段】 中心電極30と外周電極20との電位差を所定の目標値に維持しつつ、中心電極30の電位を可変する。中心電極30と外周電極20との電位差をプラズマの発生に適した電位差に維持することによりプラズマを好適に発生させながら、ハニカム構造体40におけるPMの付着位置を自在に制御できる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
供給される排ガス中の粒子状物質を捕集すべきハニカム構造体と、該ハニカム構造体の上流側からハニカム構造体の軸線上に延びる中心電極と、前記ハニカム構造体の外周に配置された外周電極と、前記中心電極および前記外周電極に印加する電圧を制御する制御手段とを備えた排ガス浄化装置であって、 前記制御手段は、前記中心電極と前記外周電極とを異極とし、且つ前記中心電極と前記外周電極との電位差を維持しつつ前記中心電極の電圧を可変することを特徴とする排ガス浄化装置。
IPC (5件):
F01N9/00 ,  B01D46/42 ,  B01D53/94 ,  F01N3/02 ,  F01N3/08
FI (8件):
F01N9/00 Z ,  B01D46/42 B ,  F01N3/02 301F ,  F01N3/08 C ,  B01D53/36 103C ,  B01D53/34 129C ,  B01D53/34 135A ,  B01D53/34 120D
Fターム (67件):
3G090AA02 ,  3G090AA03 ,  3G090AA06 ,  3G090BA01 ,  3G090CA01 ,  3G090CA05 ,  3G090DA01 ,  3G090DA09 ,  3G090DA10 ,  3G090DA18 ,  3G090DA20 ,  3G091AA02 ,  3G091AA17 ,  3G091AA28 ,  3G091AB02 ,  3G091AB13 ,  3G091AB14 ,  3G091BA00 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091BA21 ,  3G091BA31 ,  3G091CB08 ,  3G091EA01 ,  3G091EA05 ,  3G091EA06 ,  3G091EA07 ,  3G091EA28 ,  3G091EA34 ,  3G091GA06 ,  3G091GB01W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB10W ,  3G091GB16W ,  3G091HA14 ,  4D002AA08 ,  4D002AA12 ,  4D002AA40 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA07 ,  4D002BA14 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB20 ,  4D048AA14 ,  4D048AB01 ,  4D048BA03X ,  4D048BA23X ,  4D048BA28X ,  4D048BA30X ,  4D048BA35X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048EA03 ,  4D058JA32 ,  4D058JB06 ,  4D058MA44 ,  4D058MA60 ,  4D058SA08 ,  4D058TA06 ,  4D058UA25
引用特許:
出願人引用 (1件)

前のページに戻る