特許
J-GLOBAL ID:200903023104619709

磁気ディスク用カーボン基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤巻 正憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-306432
公開番号(公開出願番号):特開平7-029166
出願日: 1993年12月07日
公開日(公表日): 1995年01月31日
要約:
【要約】【目的】 処理速度が速く製造コストが低いと共に、各基板の面内における表面粗度のばらつき及びロット内における各基板間の表面粗度のばらつきを低減することができる磁気ディスク用カーボン基板の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 カーボン基板の表面をドライエッチングすることにより、粗面化する。このドライエッチングによりカーボン基板の表面粗度Raを10〜500Åにする。前記ドライエッチングの具体的方法としては、例えば、ケミカルドライエッチング、バレルエッチング、プラズマエッチング、RIE、RIBE又はイオンミリングがある。
請求項(抜粋):
カーボン基板の表面をドライエッチングすることにより、粗面化することを特徴とする磁気ディスク用カーボン基板の製造方法。
IPC (3件):
G11B 5/84 ,  C01B 31/02 ,  G11B 5/82

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