特許

J-GLOBAL ID：200903023105907449

画像形成装置の清掃機構

発明者： 西田 正義 ,  廣田 真
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 中村 智廣 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-345653
公開番号（公開出願番号）：特開2001-343876
出願日： 2000年11月13日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：

【要約】【課題】 画像形成装置内の部品交換時期に限らず適切な時期に掃除を行うことができ、しかもその掃除効果が高い画像形成装置の掃除機構を提供する。【解決手段】 画像形成装置内外に出し入れ可能な清掃部材を備え画像形成装置内の被清掃部材を掃除する清掃機構において、清掃部材を画像形成装置内に挿入する方向、又は画像形成装置内から引き出す方向のいずれか一方向のみ当該清掃部材が被清掃部材に接触する。

請求項（抜粋）：

画像形成装置内外に出し入れ可能な清掃部材を備え画像形成装置内の被清掃部材を掃除する清掃機構において、清掃部材を画像形成装置内に挿入する方向、又は画像形成装置内から引き出す方向のいずれか一方向のみ当該清掃部材が被清掃部材に接触することを特徴とする清掃機構。

IPC (5件)：

G03G 21/10 ,  B08B 1/02 ,  B08B 11/00 ,  G03G 21/16 ,  G03G 15/04

FI (5件)：

B08B 1/02 ,  B08B 11/00 A ,  G03G 15/04 ,  G03G 21/00 310 ,  G03G 15/00 554

Fターム (13件)：

2H034AA00 ,  2H071BA13 ,  2H071BA19 ,  2H071BA35 ,  2H071BA36 ,  2H071DA02 ,  2H071EA10 ,  2H076AA91 ,  3B116AA08 ,  3B116AB54 ,  3B116BA08 ,  3B116BA23 ,  3B116BA32

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平2-150882
  

審査官引用 (1件)

• 特開平2-150882