特許
J-GLOBAL ID：200903023111412346
基板現像装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-181051
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037788
出願日： 1993年07月22日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 基板全面に現像液を無駄なく塗布できるようにする。【構成】 基板現像装置は、フォトレジストが塗布されかつ所定のパターンに露光された基板3を現像液により現像する装置であって、基板保持部4とノズル部7と移動フレーム9とを備えている。基板保持部4は基板3を水平に保持する。ノズル部7は、基板3の上面に沿って延びかつその開口長さが基板3の幅より短いスリットノズル20と、スリットノズル20の両端においてその延長線上に配置された1対の平坦面部24とを有しており、現像液を基板に対して吐出する。移動フレーム7は、基板保持部4に対しノズル部7を水平移動させる。
請求項（抜粋）：
感光性樹脂が塗布されかつ所定のパターンに露光された基板を現像液により現像する基板現像装置であって、前記基板を水平に保持し得る基板保持部と、前記基板の上面に沿って延びかつその開口長さが前記基板の幅より短いノズル部と、前記ノズル部の両端においてその延長線上に配置された1対の平坦面部とを有し、前記現像液を前記基板に対して吐出する現像液供給部と、前記基板保持部に対し前記現像液供給部を相対移動させる相対移動手段と、を備えた基板現像装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 501
H01L 21/30 569 D
, H01L 21/30 569 F
