特許

J-GLOBAL ID：200903023116645586

円筒状フォトマスク及びその製造方法並びに円筒状フォトマスクを用いた動圧発生溝の形成方法

発明者： 嶋田 一三 ,  林 智彦 ,  永田 哲也
出願人/特許権者： セイコー精機株式会社
代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-161093
公開番号（公開出願番号）：特開平9-316666
出願日： 1996年05月31日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：

【要約】【課題】 従来の動圧発生溝形成用フォトマスクは、真円度が悪く、また寸法精度に乏しく更には製品毎の寸法のバラツキが大きく、フォトマスクのパターンに忠実なパターン形成が不可能なため、設計パターンに忠実なパターンの動圧発生溝の形成が不可能であった。【解決手段】 エレクトロフォーミング法を用いて、動圧発生溝被形成体9の被加工部91の表面にフォトレジスト層10を塗布形成した被露光部11に嵌合可能であると共に所望の動圧発生溝のパターンを有する透孔8が形成されている金属製の円筒状フォトマスク7を製造する。

請求項（抜粋）：

エレクトロフォーミング法を用いて得られる金属製の円筒状フォトマスクであり、動圧発生溝被形成体の被加工部の表面にフォトレジスト層を形成した被露光部に嵌合可能であると共に所望の動圧発生溝のパターンを有する透孔が形成されていることを特徴とする円筒状フォトマスク。

IPC (4件)：

C23F 1/00 ,  C23F 1/00 102 ,  C25D 1/02 ,  G03F 1/08

FI (4件)：

C23F 1/00 B ,  C23F 1/00 102 ,  C25D 1/02 ,  G03F 1/08 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-304212
  
• 特開昭53-142332
  
• 特開昭61-130490